Header Halfgeleider

Halfgeleider

Toepassingen in de halfgeleiderindustrie

Toepassingen in de halfgeleiderindustrie variëren van rubberen afdichtingen en componenten voor procesapparatuur die wordt gebruikt bij de fabricage van geïntegreerde schakelingen of halfgeleiders.

Verminder uw TCO met ERIKS Cleanrooms

ERIKS heeft eigen cleanrooms om vervuiling en “out-gassing” van componenten te voorkomen. Binnen de cleanrooms worden o-ringen, rubber vormdelen en andere afdichtingsproducten en kunststoffen met behulp van de juiste methode gereinigd. De producten worden stofvrij gemaakt en vervolgens optimaal verpakt onder stringente procedures en werkvoorschriften, voor zowel ERIKS als niet-ERIKS artikelen. Een aantrekkelijke besparing in tijd en in kosten!

Oplossingen voor de halfgeleiderindustrie

SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) is een pseudo-regelgevende organisatie die normen en testprocedures biedt.

Meer informatie over afdichtingen voor de halfgeleiderindustrie

Als u vragen heeft over onze afdichtingen voor de halfgeleiderindustrie, neem dan contact op met een van onze locaties of vul het formulier hieronder in.

 

Applicaties Halfgeleiderindustrie
SegmentsEnvironmentElastomersSealing Considerations
Crystal Growth (Pulling)25 to 200 C .001 - .01 torrFKMHigh thermal stability, chemical resistance, good vacuum performance
Thermal (LPCVD) Nitride, Oxide, ...23 to 300 C .5 - 1.0 torrFKM, VMQ, FFKMHigh thermal stability, chemical resistance, good vacuum performance
Track & Lithography25 to 100 C ambientFKM, EPDM FFKM (AU)Chemical resistance - solvents
Dry Etch25 to 200 C .1 - 1.0 torrFKM, FFKMChemical resistance, plasma resistance, thermal stability, non-black preferred
Wet Etch25 to 200 C ambientFKM, TFE, FFKMChemical resistance, no elemental contamination
Resist Stripping25 to 250 C .001 - .01 torrFVMQ, VMQ, FKM, FFKMChemical resistance - especially oxygen- rich and ozone environment
Cleaning25 to 200 C ambientFKM, FFKMAcid and solvent resistance, some high pH chemical resistance
Chemical Vapor Deposition (CVD)25 to 250 C .001 - .01 torrFKM, FFKMHigh vacuum performance, chemical resistance, thermal stability
Ion Implant25 to 200 C .0000001 torrNBR, FKMUltrahigh vacuum performance, low outgassing and permeation
Physical Vapor Deposition (PVD)25 to 200 C .000001 - .02 torrFKMUltrahigh vacuum performance, low outgassing and permeation
Chemical Mechanical25 to 80 C ambientEPDM, FFKMAbrasion resistance, high pH chemical resistance
Onze merken
eriks_logo.jpg
logo_kalrez.jpg
pioneer-weston-logo.jpg
garlock-logo.jpg
saint-gobain-logo.jpg
parco-seals-logo.jpg
freudenberg-logo.jpg
parker-logo.jpg
Onze klanten
asml.jpg
gsk.jpg
bosch.jpg
emerson.png
shell.png
heineken.png
tata-steel.jpg
cargill.png
daimler.jpg
friesland-campina-customerlogo.jpg
philips.png
 
Aangesloten bij internationale organisaties
logo_esa.jpg
logo_eusga.jpg
Vraag het ERIKS

Uw gegevens worden niet gedeeld met derde partijen

Dhr. / Mevr.
*Dit zijn verplichte velden
Menu