Toepassingen in de halfgeleiderindustrie
Toepassingen in de halfgeleiderindustrie variëren van rubberen afdichtingen en componenten voor procesapparatuur die wordt gebruikt bij de fabricage van geïntegreerde schakelingen of halfgeleiders.
Verminder uw TCO met ERIKS Cleanrooms
ERIKS heeft eigen cleanrooms om vervuiling en “out-gassing” van componenten te voorkomen. Binnen de cleanrooms worden o-ringen, rubber vormdelen en andere afdichtingsproducten en kunststoffen met behulp van de juiste methode gereinigd. De producten worden stofvrij gemaakt en vervolgens optimaal verpakt onder stringente procedures en werkvoorschriften, voor zowel ERIKS als niet-ERIKS artikelen. Een aantrekkelijke besparing in tijd en in kosten!
Oplossingen voor de halfgeleiderindustrie
SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) is een pseudo-regelgevende organisatie die normen en testprocedures biedt.
Meer informatie over afdichtingen voor de halfgeleiderindustrie
Als u vragen heeft over onze afdichtingen voor de halfgeleiderindustrie, neem dan contact op met een van onze locaties of vul het formulier hieronder in.
| Segments | Environment | Elastomers | Sealing Considerations |
|---|---|---|---|
| Crystal Growth (Pulling) | 25 to 200 C .001 - .01 torr | FKM | High thermal stability, chemical resistance, good vacuum performance |
| Thermal (LPCVD) Nitride, Oxide, ... | 23 to 300 C .5 - 1.0 torr | FKM, VMQ, FFKM | High thermal stability, chemical resistance, good vacuum performance |
| Track & Lithography | 25 to 100 C ambient | FKM, EPDM FFKM (AU) | Chemical resistance - solvents |
| Dry Etch | 25 to 200 C .1 - 1.0 torr | FKM, FFKM | Chemical resistance, plasma resistance, thermal stability, non-black preferred |
| Wet Etch | 25 to 200 C ambient | FKM, TFE, FFKM | Chemical resistance, no elemental contamination |
| Resist Stripping | 25 to 250 C .001 - .01 torr | FVMQ, VMQ, FKM, FFKM | Chemical resistance - especially oxygen- rich and ozone environment |
| Cleaning | 25 to 200 C ambient | FKM, FFKM | Acid and solvent resistance, some high pH chemical resistance |
| Chemical Vapor Deposition (CVD) | 25 to 250 C .001 - .01 torr | FKM, FFKM | High vacuum performance, chemical resistance, thermal stability |
| Ion Implant | 25 to 200 C .0000001 torr | NBR, FKM | Ultrahigh vacuum performance, low outgassing and permeation |
| Physical Vapor Deposition (PVD) | 25 to 200 C .000001 - .02 torr | FKM | Ultrahigh vacuum performance, low outgassing and permeation |
| Chemical Mechanical | 25 to 80 C ambient | EPDM, FFKM | Abrasion resistance, high pH chemical resistance |
| Compound number | Material | Nominal hardness | Compliances | Application | Colour | Minimum temperature | Maximum temperature | Datasheet |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 4079 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Chemical Processing | Black | -10.0 | 316.0 | ||
| 8002 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Clear | -10.0 | 250.0 | ||
| 8085 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Beige | -10.0 | 240.0 | ||
| 8475 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | White | -10.0 | 300.0 | ||
| 8575 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | White | -10.0 | 300.0 | ||
| 9100 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Transluc. | -10.0 | 300.0 | ||
| 2037UP | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | White | -10.0 | 220.0 | ||
| 6375UP | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Black | -10.0 | 275.0 | ||
| 7075UP | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Black | -10.0 | 327.0 |
