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Halbleiterindustrie

ERIKS ist Ihrer Entwicklungspartner für die Halbleiterindustrie

Viele Unternehmen aus die Halbleiterindustrie verlassen sich auf Produkte und kundenspezifische Lösungen von ERIKS Sealing & Polymer. ERIKS Sealing & Polymer ist dabei nicht nur Lieferant, sondern auch ein angesehener Entwicklungspartner für wirtschafliche und kostensparende Komponenten.

Weltweiter umfassendes technisches Know-how

Mit der Zugehörigkeit zur weltweit tätigen ERIKS Gruppe (NL) können Sie als Kunde auf ein noch grösseres Produktangebot und umfassendes technisches Know-how in der Entwicklung zugreifen.

Weitere Informationen über ERIKS Dichtungen für die Halbleiterindustrie

Wenn Sie noch Fragen über ERIKS Dichtungen für die Halbleiterindustrie, bitte füllen Sie das Formular unter aus, oder kontaktieren Sie die nächste ERIKS Sealing & Polymer Filiale.

Halbleiterindustrie Anwendungen
SegmentsEnvironmentElastomersSealing Considerations
Crystal Growth (Pulling)25 to 200 C .001 - .01 torrFKMHigh thermal stability, chemical resistance, good vacuum performance
Thermal (LPCVD) Nitride, Oxide, ...23 to 300 C .5 - 1.0 torrFKM, VMQ, FFKMHigh thermal stability, chemical resistance, good vacuum performance
Track & Lithography25 to 100 C ambientFKM, EPDM FFKM (AU)Chemical resistance - solvents
Dry Etch25 to 200 C .1 - 1.0 torrFKM, FFKMChemical resistance, plasma resistance, thermal stability, non-black preferred
Wet Etch25 to 200 C ambientFKM, TFE, FFKMChemical resistance, no elemental contamination
Resist Stripping25 to 250 C .001 - .01 torrFVMQ, VMQ, FKM, FFKMChemical resistance - especially oxygen- rich and ozone environment
Cleaning25 to 200 C ambientFKM, FFKMAcid and solvent resistance, some high pH chemical resistance
Chemical Vapor Deposition (CVD)25 to 250 C .001 - .01 torrFKM, FFKMHigh vacuum performance, chemical resistance, thermal stability
Ion Implant25 to 200 C .0000001 torrNBR, FKMUltrahigh vacuum performance, low outgassing and permeation
Physical Vapor Deposition (PVD)25 to 200 C .000001 - .02 torrFKMUltrahigh vacuum performance, low outgassing and permeation
Chemical Mechanical25 to 80 C ambientEPDM, FFKMAbrasion resistance, high pH chemical resistance
Unsere Marken
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Unsere Kunden
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