ERIKS ist Ihrer Entwicklungspartner für die Halbleiterindustrie
Viele Unternehmen aus die Halbleiterindustrie verlassen sich auf Produkte und kundenspezifische Lösungen von ERIKS Sealing & Polymer. ERIKS Sealing & Polymer ist dabei nicht nur Lieferant, sondern auch ein angesehener Entwicklungspartner für wirtschafliche und kostensparende Komponenten.
Weltweiter umfassendes technisches Know-how
Mit der Zugehörigkeit zur weltweit tätigen ERIKS Gruppe (NL) können Sie als Kunde auf ein noch grösseres Produktangebot und umfassendes technisches Know-how in der Entwicklung zugreifen.
Weitere Informationen über ERIKS Dichtungen für die Halbleiterindustrie
Wenn Sie noch Fragen über ERIKS Dichtungen für die Halbleiterindustrie, bitte füllen Sie das Formular unter aus, oder kontaktieren Sie die nächste ERIKS Sealing & Polymer Filiale.
| Segments | Environment | Elastomers | Sealing Considerations |
|---|---|---|---|
| Crystal Growth (Pulling) | 25 to 200 C .001 - .01 torr | FKM | High thermal stability, chemical resistance, good vacuum performance |
| Thermal (LPCVD) Nitride, Oxide, ... | 23 to 300 C .5 - 1.0 torr | FKM, VMQ, FFKM | High thermal stability, chemical resistance, good vacuum performance |
| Track & Lithography | 25 to 100 C ambient | FKM, EPDM FFKM (AU) | Chemical resistance - solvents |
| Dry Etch | 25 to 200 C .1 - 1.0 torr | FKM, FFKM | Chemical resistance, plasma resistance, thermal stability, non-black preferred |
| Wet Etch | 25 to 200 C ambient | FKM, TFE, FFKM | Chemical resistance, no elemental contamination |
| Resist Stripping | 25 to 250 C .001 - .01 torr | FVMQ, VMQ, FKM, FFKM | Chemical resistance - especially oxygen- rich and ozone environment |
| Cleaning | 25 to 200 C ambient | FKM, FFKM | Acid and solvent resistance, some high pH chemical resistance |
| Chemical Vapor Deposition (CVD) | 25 to 250 C .001 - .01 torr | FKM, FFKM | High vacuum performance, chemical resistance, thermal stability |
| Ion Implant | 25 to 200 C .0000001 torr | NBR, FKM | Ultrahigh vacuum performance, low outgassing and permeation |
| Physical Vapor Deposition (PVD) | 25 to 200 C .000001 - .02 torr | FKM | Ultrahigh vacuum performance, low outgassing and permeation |
| Chemical Mechanical | 25 to 80 C ambient | EPDM, FFKM | Abrasion resistance, high pH chemical resistance |
| Compound number | Material | Nominal hardness | Compliances | Application | Colour | Minimum temperature | Maximum temperature | Datasheet |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 4079 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Chemical Processing | Black | -10.0 | 316.0 | ||
| 8002 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Clear | -10.0 | 250.0 | ||
| 8085 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Beige | -10.0 | 240.0 | ||
| 8475 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | White | -10.0 | 300.0 | ||
| 8575 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | White | -10.0 | 300.0 | ||
| 9100 | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Transluc. | -10.0 | 300.0 | ||
| 2037UP | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | White | -10.0 | 220.0 | ||
| 6375UP | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Black | -10.0 | 275.0 | ||
| 7075UP | Kalrez® | ADI,REACH,RoHS | Semiconductor | Black | -10.0 | 327.0 |
